테트라키스(디에틸아미노)지르코늄 기본 속성
| 동의어 | 테트라키스(디에틸아미노)지르코늄M(IV), 99%; 테트라키스(디에틸아미노)지르코늄,99%;테트라키스(디에틸아미노)지르코늄;TETRAKIS(DIETHYLAMINO)지르코늄 |
| 분자식 | C16H40N4Zr |
| 모습 | 노란색 액체 |
| 분자량 | 379.74 |
| 비등점 | 128°C0.05mmHg(점등) |
| 밀도 | 25°C(리터)에서 1.026g/mL |
| 굴절률 | n20/D 1.51(점등) |
| 인화점 | 54°F |
| 보관 조건 | 물이 없는 지역 |
| 청정 | 6N |
| 패키지 정보 | 100g, 500g, 1kg 또는 맞춤형 |
테트라키스(디에틸아미노) 지르코늄 주요 특징
우수한 ALD 반응성
테트라키스(디에틸아미노) 지르코늄은 높은 표면 반응성을 나타내어 저온 ALD 공정에 적합하고 조밀하고 균일한 지르코니아 필름 획득에 기여합니다.
좋은 변동성
액체 전구체인 TDEAZ는 제어된 가열 조건에서 안정적인 증기 수송 특성을 나타내므로 정밀한 계량 및 공정 규모 확대에 적합합니다.
제어 가능한 순도
적절한 공정 창 내에서 사용하면 탄소 잔류 위험을 효과적으로 줄이고 박막용 반도체 장치의 순도 요구 사항을 충족할 수 있습니다.
성숙한 산업 응용 기반
TDEAZ는 다양한 산화지르코늄(ZrO2) 및 관련 복합박막 공정에서 검증되었으며 R&D, 파일럿 생산 및 대량 생산 단계에 적합합니다.
테트라키스(디에틸아미노) 지르코늄 주요 용도
지르코니아 박막 제조를 위한 ALD
테트라키스(디에틸아미노)지르코늄은 ZrO2박막 제조에 흔히 사용되는 지르코늄 원료로 논리소자, 메모리, 첨단공정 등의 고유전율 재료 증착에 널리 사용된다.
CVD 공정
특정 CVD 공정 조건에서 TDEAZ는 기능층 또는 인터페이스 층의 구성을 위해 지르코늄 기반 박막을 증착하는 데 사용될 수 있습니다.
반도체 및 첨단소재 연구
대학 및 연구 기관에서 이 전구체는 새로운 박막 재료, 인터페이스 엔지니어링 및 공정 매개변수 최적화에 대한 연구에 자주 사용됩니다.
고급 코팅 및 기능성 박막
반도체 분야 외에도 TDEAZ는 고성능 세라믹 코팅 및 기능성 산화물 박막을 위한 준비 경로를 탐색하는 데에도 사용되고 있습니다.
지침
테트라키스(디에틸아미노) 지르코늄은 습기와 공기에 매우 민감하므로 어떠한 형태의 습기도 유입되지 않도록 불활성 대기(예: 질소 또는 아르곤)에서 취급하고 보관해야 합니다.
이 화합물은 격렬한 반응이나 분해를 방지하기 위해 물, 알코올, 강산화제 또는 산성 물질과 접촉해서는 안 됩니다.
작업 중에는 보호 장갑, 고글 및 기타 보호 장비를 착용해야 하며 작업은 흄후드 또는 불활성 대기 시스템에서 수행되어야 합니다.
화학물질이 피부나 눈에 닿은 경우 즉시 다량의 물로 씻어내고 즉시 의사의 진료를 받으십시오. 또한, 화학물질의 특성에 대해 전문가에게 알리십시오.
운송 중에는 씰이 손상되지 않았는지 확인하고 고온, 진동 및 포장 손상을 방지해야 합니다. 이는 일반적으로 유해화학물질 규정에 따라 수행됩니다.
FAQ
1. 테트라키스(디에틸아미노) 지르코늄이란 무엇입니까?
TDEAZ는 화학식 C16H40N4Zr을 갖는 유기지르코늄 전구체입니다. 끓는점은 128°C(0.05mmHg, lit.)이고 인화점은 54°F입니다. 지르코늄 기반의 박막을 제조하기 위한 ALD 및 CVD 공정에서 주로 사용됩니다.
2. TDEAZ는 주로 어떤 재료를 증착에 사용합니까?
가장 일반적으로 응용되는 분야는 산화지르코늄(ZrO2) 박막의 증착이며, 지르코늄계 복합산화물 박막 연구에도 활용될 수 있습니다.
3. 이 화합물은 저온 ALD 공정에 적합한가요?
그렇습니다. 반응성이 높아 상대적으로 낮은 온도의 ALD 공정 창에 적합합니다.
4. 이 제품의 보관 요구 사항은 무엇입니까?
일반적으로 불활성 가스 보호 및 전용 밀봉 용기를 사용하여 무수 및 무산소 조건에서 보관해야 합니다.
5. 테트라키스(디에틸아미노) 지르코늄은 산업적 대량 생산에 적합합니까?
성숙한 공정 제어 및 안전 시스템을 갖춘 TDEAZ는 파일럿 규모 및 산업 규모의 ALD/CVD 생산에 널리 사용되었습니다.
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