외관 : 담황색 액체
분자량 : 287.36
녹는점 : 6 °C(lit.)
끓는점 : 100 °C0.01 mm Hg(lit.)
밀도 : 1.3412 g/mL at 25 °C(lit.)
보관 조건 : 5°C 이하
가수분해 민감도 : 중성 조건에서 물과 반응하지 않음
비스(에틸사이클로펜타디에닐) 루테늄은 고순도(≥99.5%)와 극히 낮은 탄소 및 산소 불순물 함량을 특징으로 하여 금속 박막 증착 시 균일성과 전기적 특성을 보장합니다.
Ru(EtCp)₂는 중온도 범위에서 구조적 안정성을 유지하고 적당한 증기압을 갖고 있어 ALD 및 CVD 박막 증착 시스템에 이상적으로 적합합니다.
증착 공정에서 Ru(EtCp)₂는 필름 두께 조절이 가능하고 접착력이 우수한 핀홀이 없는 매끄러운 루테늄 박막을 생성합니다.
O2, O₃, NH₃, H2O 등의 산화환원 반응 시스템과 호환되며 다양한 장비 유형 및 공정 요구사항에 적합합니다.
비스(에틸사이클로펜타디에닐) 루테늄은 집적 회로, DRAM 전극 및 논리 칩 상호 연결 층의 제조에 사용되는 루테늄 금속 층을 증착하기 위한 주류 전구체입니다.
Ru(EtCp)₂는 원자층 증착에 사용되어 전극재료, 광전지 소자, 하드코팅 등에 널리 사용되는 고순도 루테늄 및 RuO2박막을 제조할 수 있습니다.
촉매 반응 및 배위 화학 연구에서 Ru(EtCp)₂는 중요한 유기 루테늄 공급원 역할을 하며 금속-유기 골격(MOF) 및 새로운 촉매 제조를 위한 신뢰할 수 있는 원료를 제공합니다.
Ru(EtCp)₂는 공기와 습기에 매우 민감하므로 아르곤 또는 질소 보호 환경에서 취급 및 보관해야 합니다.
빛에 의해 변질될 수 있으므로 5°C 이하에서 보관하는 것이 좋습니다.
직접적인 피부 접촉을 피하기 위해 사용 시 보호 장갑, 보호 안경 및 실험 가운을 착용하십시오.
화학 반응이나 연소를 피하기 위해 강한 산화제와 혼합하지 마십시오.
누출이 발생하면 통풍이 잘 되는 환경에서 불활성 흡수재(예: 규조토)로 청소하고 유기 금속 폐기물 규정에 따라 폐기하십시오.
기존 Bis(cyclopentadienyl) Ruthenium에 비해 Ru(EtCp)₂는 향상된 휘발성과 공정 안정성을 제공하므로 저온 증착 및 높은 균일성이 요구되는 ALD 응용 분야에 적합합니다.
2. Ru(EtCp)₂는 어떤 기판재료에 사용할 수 있나요?
SiO2, TiN, Al2O₃, TaN 등 일반적인 반도체 기판에 적합합니다. 강한 접착력으로 치밀한 필름을 증착합니다.
3. Ru(EtCp)₂가 요구되는 순도 기준을 충족하는지 어떻게 확인할 수 있나요?
불순물 수준은 ICP-MS 또는 GC-MS를 사용하여 측정할 수 있습니다. 우리는 순도와 구조적 일관성을 검증하기 위해 분석 인증서(COA)와 제3자 테스트 보고서를 제공합니다.
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